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    PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)

    • 型號
    • 模式等離子清洗

    PTL-VM2000等離子清洗機(jī)可支持8英寸規(guī)格產(chǎn)品處理

    1. 詳細(xì)信息

    一、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)設(shè)備簡介:

    PTL-VM2000等離子清洗機(jī)可支持8英寸處理。

    PTL 系列低溫等離子表面處理設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體, 利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到 30-100pa 的真空度,再在高頻發(fā)生器作用下,將氣體進(jìn)行電離,形成等離子體(物質(zhì)第四態(tài)),其顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電,根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的彩色可見光,材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用,得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

    等離子處理優(yōu)點(diǎn):

    1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。

    2.廣適性:不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理;

    3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

    4.功能強(qiáng):僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000 埃),可在保持材料自身特性的同時,賦予其一種或多種新的功能;

    5.低成本:裝置簡單,易操作維修,可連續(xù)運(yùn)行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

    6. 全過程可控工藝:所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。

    7. 處理物幾何形狀無限制:大或小,簡單或復(fù)雜,部件或紡織品,均可處理。

    二、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)

    1、設(shè)備外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

    2、真空倉體尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 約 20L

    3、倉體結(jié)構(gòu): 航空鋁合金腔體,內(nèi)置容式耦合電極,電極尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 層。

    4、等離子發(fā)生器: 德國 PTL 射頻發(fā)生器技術(shù),頻率 40khz,功率 0-600W 調(diào)節(jié),自動匹配,全電路保護(hù),可連續(xù)長時間工作。(風(fēng)冷)。

    5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動控制,采用歐姆龍、施耐德等進(jìn)口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制模式,真彩臺達(dá)觸摸屏,西門子可編程控制器(PLC),美國產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng),可在線監(jiān)控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數(shù),并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式下設(shè)置各項(xiàng)工藝參數(shù),可一鍵啟動,連續(xù)重復(fù)運(yùn)行。手動模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

    6、PTL-VM2000 采用立式結(jié)構(gòu)設(shè)計,設(shè)備設(shè)計緊湊,整體一體化設(shè)計,采用全自動控制模式,適合于工廠中小批量產(chǎn)品生產(chǎn)。

    三、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)工藝流程:

    3.1 處理工藝流程

    裝入工件→抽真空→沖入反應(yīng)氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

    3.2 工藝控制:

    3.2.1 處理時間控制: 1 秒~120 分鐘連續(xù)可調(diào)。

    3.2.2 等離子放電壓力:30~50Pa

    3.2.3 功率設(shè)定范圍:0~600W 連續(xù)可調(diào)

    3.2.4 兩路工藝氣體流量設(shè)定范圍: 氣體 1(0~160ml/min) 氣體 2(0~500ml/min)

    3.3 PLC 軟件功能(操控界面)

    PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)

    3.3.1 主畫面:實(shí)時監(jiān)視并顯示運(yùn)行狀態(tài)及數(shù)據(jù),等離子電源功率、氣體流量、閥門開關(guān)、真空

    壓力、運(yùn)行時間等。

    3.3.2 參數(shù)設(shè)置:可設(shè)定、修改工藝參數(shù)及步驟。

    3.3.3 工作狀態(tài):可在線查看真空壓力、等離子功率等數(shù)據(jù)及狀態(tài)。

    33.4 故障報警:多種故障檢測、報警及互鎖保護(hù)。

    四、真空泵:雙級旋片泵

    五、場地要求

    源:兩相三線,獨(dú)立接地,接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積 3mm2以上的接地線將設(shè)備接至PE。

    真空泵排放氣管:軟管,管徑(內(nèi)徑)建議將排氣管接至室外。

    場地溫度:≤40℃

    相對濕度:RH(35-85)%


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