• 如何成功進(jìn)行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。首先，光掩模和晶圓之間的灰塵...2024-08-23 08:57:36
• 微流控SU-8光刻膠的紫外曝光可使SU-8光刻膠可溶于或不溶于溶劑。良好SU-8 UV曝光的相關(guān)參數(shù)紫外曝光過(guò)程中光掩模和SU-8之間的接觸為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率...2017-12-21 08:58:06
• 環(huán)境保護(hù)與加工系統(tǒng)光刻與鍵合設(shè)備：制備PDMS或玻璃材質(zhì)的微米級(jí)流道芯片，支持紫外曝光與熱鍵合工藝，精度達(dá)±1μm，適用于重金屬、農(nóng)藥殘留等檢測(cè)流道設(shè)計(jì)。3...2026-03-31 09:20:06
• 食品安全工系統(tǒng)光刻與鍵合設(shè)備：用于制備PDMS或玻璃材質(zhì)的微米級(jí)流道芯片，支持紫外曝光與熱鍵合工藝，精度達(dá)±1μm。3D打印設(shè)備：快速成型復(fù)雜結(jié)構(gòu)芯片（如螺...2026-03-31 09:20:06
• 醫(yī)療診斷與加工設(shè)備光刻機(jī)：用于制備微米級(jí)流道結(jié)構(gòu)，如SUSS MA6光刻機(jī)支持紫外曝光與掩膜對(duì)準(zhǔn)，精度達(dá)±1μm。軟注塑機(jī)：批量復(fù)制PDMS芯片，兼容復(fù)雜三...2026-03-31 09:20:06
• SU-8光刻膠模具軟烤（光刻膠的第一次烘烤） ；4、 邊緣光刻膠的去除（可選） ；5、 紫外曝光 ；6、 曝光后烘烤（光刻膠的第二次烘烤）；7、 顯影 ；8、 硬烘烤...2026-03-31 09:20:06
• 高深寬比光敏玻璃生產(chǎn)，具有先進(jìn)的光敏性、均質(zhì)性。該玻璃一款技術(shù)光敏玻璃。該光敏玻璃經(jīng)過(guò)紫外曝光以及熱處理后會(huì)析出晶體，這些析晶區(qū)域在酸腐蝕之后可以形成高深寬比的細(xì)小...2020-08-21 09:54:51
• ?凝膠澆筑微流控芯片的介紹模板：用光刻法制作微流控芯片結(jié)構(gòu)圖案硅片模板，包括旋涂光刻膠、軟烘焙、紫外曝光、后烘、顯影、堅(jiān)膜、硅烷化處理步驟。混合PDMS預(yù)聚物與聚合劑：將聚二...2025-03-27 10:36:12
• 基于玻璃基底的細(xì)胞培養(yǎng)芯片研究（上）0min此時(shí)光刻膠厚度為6~7μm。軟烘結(jié)束,利用光刻機(jī)對(duì)玻璃基底進(jìn)行紫外曝光。曝光后的ITO玻璃用顯影液AZ400K顯影，顯影過(guò)程中不斷晃動(dòng)ITO...2024-12-05 10:22:20
• 低成本微流控芯片的加工與鍵合方法（下）的粘性材料通常是具有紫外固化性質(zhì)的材料(如SU—8、干膜等)，需要經(jīng)過(guò)紫外曝光實(shí)現(xiàn)基底和蓋片材料的鍵合。此外，非紫外固化材料如蠟也可以用來(lái)進(jìn)行簡(jiǎn)易的...2024-07-23 09:39:21