• PDMS濕法刻蝕與軟刻蝕的區(qū)別體材料，廣泛應(yīng)用于微流控芯片、生物傳感器和柔性電子等領(lǐng)域。在這些應(yīng)用中，刻蝕工藝是實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)加工的關(guān)鍵步驟。濕法刻蝕和軟刻蝕是兩種常用的刻蝕方法，它...2024-09-20 09:42:54
• PDMS軟刻蝕技術(shù)的應(yīng)用PDMS（聚二甲基硅氧烷）軟刻蝕技術(shù)是一種在高分子科學(xué)中廣泛應(yīng)用的微制造技術(shù)。它能夠簡(jiǎn)捷有效、高精度地制備出眾多材料的微結(jié)構(gòu)，且技術(shù)成本低廉，不需要昂貴的設(shè)備和苛刻的環(huán)境，具有...2024-09-19 09:34:25
• 微流控芯片加工中的PDMS軟刻蝕技術(shù)和聚合物成型介紹同類型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介紹PDMS芯片加工的軟光刻/軟刻蝕技術(shù)（soft lithography technique）和聚合物成型...2024-08-28 09:11:56
• 濕法刻蝕工藝干法刻蝕（Dry Etching）是使用氣體刻蝕介質(zhì)。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕（如離子束刻蝕）和化學(xué)氣相刻蝕（如等離子體刻蝕）等。與干法蝕刻相比...2024-07-31 09:09:43
• 半導(dǎo)體光刻刻蝕過程和工藝高于前烘溫度100-130℃，時(shí)間2分鐘。蒸發(fā)光刻膠中所有有機(jī)溶劑、提高刻蝕和注入的抵抗力、提高光刻膠和表面的粘附性、聚合和使得光刻膠更加穩(wěn)定、光刻...2024-06-19 09:51:25
• 工藝參數(shù)選擇對(duì)石英玻璃刻蝕性能的研究EMS制備中占據(jù)了重要的作用。Nakanishi等采用46%的氫氟酸作為刻蝕劑制備出玻璃材質(zhì)的電泳芯片。玻璃材料由于其自身特性，它沒有電荷的自由移動(dòng)...2023-12-26 10:28:25
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝三：芯片刻蝕光刻和刻蝕是兩個(gè)不同的加工工藝，但因?yàn)檫@兩個(gè)工藝只有連續(xù)進(jìn)行，才能完成真正意義上的圖形轉(zhuǎn)移，而且在工藝線上，這兩個(gè)工藝經(jīng)常是放在同一工序，因此，有時(shí)也將這...2018-06-07 08:49:02
• 微流控芯片加工：PDMS軟刻蝕技術(shù)和聚合物成型介紹同類型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介紹PDMS芯片加工的軟光刻/軟刻蝕技術(shù)（soft lithography technique）和聚合物成型...2017-12-28 09:32:10
• 基于電化學(xué)刻蝕與微電鑄工藝微電鑄工藝中鑄層與基底結(jié)合力差的問題，在光刻工藝的基礎(chǔ)上，采用掩膜電化學(xué)刻蝕和微電鑄相結(jié)合的方法，制作出了結(jié)合力較好的鎳基雙十字微流控芯片模具。針對(duì)...2017-10-10 08:38:48
• 刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕刻蝕工藝刻蝕，是指用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。刻蝕的基本目的，是在涂膠(或有掩膜)的硅片上正確的復(fù)制出掩膜圖形。 ???...2017-08-23 16:26:42