光刻膠主要通過旋涂的方式進行涂布的（又稱為“甩膠”），對于薄膠，最佳的旋涂轉速為2000~4000rpm，對于相對膠厚的膠，最佳旋涂轉速為250~2000rpm，勻膠機的轉速通常可以達到9000rpm，在某些情況下，還可以使用1000~200rpm較慢的轉速來獲得特定較厚的膠層。但是這種情況下，膠膜的質量會下降。并且可能會在晶圓的邊緣形成大量的邊緣膠珠，可以通過旋涂獲得30~200um的膠厚（取決于光刻膠的類型），也可以使用自流平的方法獲得高達1mm后的厚膠膜。

需要注意，頻繁打開瓶蓋會導致光刻膠中的溶劑揮發(fā)，從而導致膠變厚，一般來說，對于1.4um（@4000rpm）的膠，1%的溶劑揮發(fā)會導致膠厚增加4%，對應的曝光劑量也需要增加。

一般情況下，以1000rpm勻膠轉速下獲得的膠厚是4000rpm下膠厚的2倍，可以以此來估算特定光刻膠的膜厚值。對于AR-P 3510，在4000rpm轉速下膠厚為2.0um，在1000rpm轉速下的膠厚約為4.0um，如果可以接受薄膜成膜質量差，邊緣膠珠的前提下，250rpm甚至可以獲得8um的膠厚，但是我們不建議這么做。使用高轉速可將膠厚控制在1.6um（在6000rpm下）。如下圖所示：

在涂膠轉速>1500rpm下，30s的涂膠時間足以獲得所需的膜厚，但在較低的轉速下，其涂膠時間應延長至60s，對于加蓋共旋的勻膠機，雖然其涂膠質量較高，但是其厚度通常是開放式勻膠機厚度的70%。對于薄膠，一般的勻膠時間為60s足夠了，過長的勻膠時間，反而會使成膜質量變差。

還有一些不常見涂膠工藝，如下：

浸涂：適用于大型或者不規(guī)則形狀的襯底。

噴涂：與旋涂結合，以節(jié)約光刻膠，也適用于襯底表面有深溝槽結構或者襯底形狀不規(guī)則的情況。

輥涂：大幅面襯底，如防偽、印刷行業(yè)。

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