電子信息產業(yè)的更新?lián)Q代速度不斷加快，新技術、新工藝不斷涌現(xiàn)，對光刻膠的需求不論是品種還是數(shù)量都大大增多。日本是光刻膠生產和應用最多的國家。根據日本富士經濟株式會社的統(tǒng)計1，2011年全球光刻膠市場規(guī)模為4,736.40億日元。電腦、手機、顯示器等日常電子產品中都需要用到十幾種光刻膠，光刻膠是發(fā)展微電子信息產業(yè)及光電產業(yè)中關鍵基礎工藝材料之一。

  光刻膠發(fā)明后，首先被運用于軍事、國防設備中高性能集成電路、光學、傳感、通訊器材等的加工制作，因此發(fā)達國家以前一直將光刻膠作為戰(zhàn)略物資加以控制。1994年巴黎統(tǒng)籌委員會（對社會主義國家實行禁運和貿易限制的國際組織）解散前，光刻膠都被列為禁運產品。目前盡管放松了管制，但最尖端的光刻膠產品依然是發(fā)達國家管制對象。
　    生產光刻膠的原料光引發(fā)劑、光增感劑、光致產酸劑和光刻膠樹脂等專用化學品是體現(xiàn)光刻膠性能的最重要原料，和光刻膠一樣長期以來被國外公司壟斷。

  我國對光刻膠及專用化學品的研究起步較晚，國家非常重視，從“六五計劃”至今都一直將光刻膠列為國家高新技術計劃、國家重大科技項目。盡管取得了一定成果，并有蘇州瑞紅電子化學品有限公司和北京科華微電子有限公司實現(xiàn)了部分品種半導體光刻膠的國產化，但技術水平仍與國際水平相差較大，作為原料的主要專用化學品仍然需要依賴進口。

  目前中國需要的絕大部分光刻膠都依賴進口或由外資企業(yè)在中國設立的工廠提供。光刻膠作為印制電路板、LCD顯示器、半導體的上游材料不能實現(xiàn)國產化，嚴重制約了我國微電子產業(yè)的發(fā)展。

  光刻膠專用化學品化學結構特殊、保密性強、用量少、純度要求高、生產工藝復雜、品質要求苛刻，生產、檢測、評價設備投資大， 技術需要長期積累。至今光刻膠專用化學品仍主要被光刻膠生產大國日本、歐美的專業(yè)性公司所壟斷。公司是國內少數(shù)從事光刻膠專用化學品研發(fā)、生產和銷售的企 業(yè)之一，主營產品是光刻膠產業(yè)鏈的源頭，是光刻膠的基礎，屬于國家鼓勵、重點支持和優(yōu)先發(fā)展的高新技術產品。公司光刻膠專用化學品的發(fā)展對于促進光刻膠的 國產化，提升我國微電子產業(yè)的自主配套能力具有重要意義。